Advanced design kit supports first-time-right designs in analog 180nm CMOS technology

amsの最新のデザインキット、180nm アナログCMOSテクノロジーに対応する 新規デザインの開発を確実に支援

2016/07/12

msの最新のデザイン環境「hitkit」、高集積ライブラリと優れたトランジスタの機能を提供し、複雑なアナログICの性能を向上

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ams(日本法人:amsジャパン株式会社、東京都品川区、カントリーマネージャー 岩本桂一)は本日、業界のベンチマークとなるプロセスデザインキット(PDK)の新しいバージョンを発表しました。このPDKは180nm特殊プロセスCMOSテクノロジーに対応し、現在オーストリアにあるamsの200mmウェハ工場でこの技術による製造が行われています。新しいPDKは、高精度のシミュレーションモデルだけではなく、優れたアナログの機能およびデバイスの性能をプラグアンドプレイのツールセットとして提供します。このツールセットは、新規デザインの開発を容易し、業界では必須となっている開発スケジュールの短縮を可能します。

amsの「hitkit」デザイン環境は、1.8Vと5.0VのNMOSおよびPMOSデバイス(基板ベース、フローティングタイプ、低漏れ電流、高スレッショルド電圧を選択可能)と、完全にキャラクタライズされた数多くのキャパシタを含む受動素子を備えています。また、最大152kGates/mm²までのゲート集積度、6層配線層までをサポートするアップデートされたデジタル・アナログIOライブラリとともに、最大8kVのHBM(人体帯電モデル)レベルのESD(静電気放電)保護されたセルを含む、面積を最適化した高密度および低消費電力のデジタルライブラリを提供しています。ワンタイムプログラマブルメモリ(OTP)、オンラインによるRAMおよびROMなどのメモリ生成サービス、ゼロマスクレベルアダーEEPROM IPブロック(最大8kbit)を全て含んでいます。

最新のhitkitはケイデンス社のVirtuoso® Custom IC technology 6.1.6をベースとしており、これは開発チームにとって、アナログ集約型ミックスドシグナル市場で高い競争力を持つ製品の開発期間を大幅に短縮するのに役立ちます。高精度のシミュレーションモデル、CalibreおよびAssura両ツールに対応した抽出・検証実行環境やフレキシブルなSKILLベースのPCellの提供により、新しいhitkitは、包括的なデザイン環境と実績のあるシリコンへのパスを提供します。0.18µm CMOS特殊配線プロセス(aC18)は、非常に低い欠陥密度と高い歩留まりが保証されたamsの最先端のオーストリア200mmウェハ工場で製造されています。

ams、フルサービス・ファウンドリ事業部門ジェネラルマネージャ、マーカス・ウクセのコメント「オーストリア工場でのaC18テクノロジーの稼働は、われわれにとってのマイルストーンとなります。新しいhitkitの発表により、amsは、350nmプロセスファミリをご利用いただいていたファウンドリユーザーの皆さまに対し、これまでと同じように複雑なアナログ半導体の迅速な試作品と高い品質での量産製品の両方を180nmプロセスで提供できることになります」

amsのaC18特殊プロセスは、ウェアラブル、ヘルスケア、ホームオートメーション、スマートカー、インダストリー4.0などの幅広いアプリケーション向けのセンサおよびセンサインターフェースデバイスに最適です。モノのインターネット(IoT)やスマートシティなどに使用する民生用電子機器および産業用デバイス向けに革新的なソリューションの開発が可能になります。試作はすぐに開始できます。 

量産については2016年7月からを予定しています。